Компания – резидент особой экономической зоны (ОЭЗ) «Технополис Москва» создала первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров. Об этом мэр Москвы Сергей Собянин рассказал в своем Telegram-канале.

«В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе – Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства. Российский фотолитограф создан при партнерстве с белорусским заводом, имеющим огромный опыт в этой сфере», – написал мэр.

По его словам, отечественная установка существенно отличается от зарубежных аналогов. Впервые в качестве излучения использована не ртутная лампа, а твердотельный лазер – мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром.

Как указано, на отечественный фотолитограф уже есть заказчик. Технологические процессы адаптируют к особенностям производства конечного потребителя.

В настоящее время ведется разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Завершить его планируется в 2026 году.